強磁性積層薄膜における磁界誘起パルス電圧の特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-165

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Pulse voltage generated from ferromagnetic multi-layer thin films

著者名: 宮良 一史(横浜国立大学),豆田 和博(横浜国立大学),田村 尚(横浜国立大学),山田 努(横浜国立大学),竹村 泰司(横浜国立大学)

著者名(英語): Kazufumi Miyara(Yokohama National University),Kazuhiro Mameta(Yokohama National University),Nao Tamura(Yokohama National University),Tsutomu Yamada(Yokohama National University),Yasushi Takemura(Yokohama National University)

キーワード: 磁性薄膜|磁気センサ

要約(日本語): RFマグネトロンスパッタ法によりSi基板上に作製したNiFe/CoFe系2層薄膜における磁界誘起パルス電圧を評価した．保磁力の大きいCoFe層を磁化固定層として，保磁力の小さいNiFe膜を外部印加磁界により磁化反転させた．薄膜の外部に300巻の検出コイルを設置して，このコイルに誘起される出力電圧の周波数依存性等を検討した．NiFe層の磁化がCoFe層の磁化方向に対して反平行から平行になる際に比較的大きな出力が得られた．この出力電圧は1Hz程度の低周波磁界に対しても観測された．その周波数依存が磁界の時間変化率から推測される特性と比較して，低周波数領域での減衰が小さいことから大バルクハウゼンジャンプに起因する出力が誘起されているとの結論を得た．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 124 Kバイト