FeRh合金薄膜の磁気相転移

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-166

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Magnetic Phase Transition of FeRh Alloy Films

著者名: 枦修一郎 (岐阜大学),柳瀬 俊次(岐阜大学),岡崎 靖雄(岐阜大学),井上 光輝(豊橋技術科学大学)

著者名(英語): Shuichiro Hashi(Gifu University),Shunji Yanase(Gifu University),Yasuo Okazaki(Gifu University),Mitsuteru Inoue(Toyohashi University of Technology)

キーワード: 鉄ロジウム合金|磁気相転移|薄膜

要約(日本語): イオンビームスパッタリング法により鉄ロジウム合金薄膜を作製し、成膜後の熱処理条件を変化させ、結晶構造と磁気相転移特性について検討を行った。鉄とロジウムの原子濃度の組成比が49：51の膜について600℃，90分の短時間の熱処理条件において、急峻で温度ヒステリシスの小さな磁気相転移を示す膜が得られることが判った。またシリコン基板とガラス基板では、熱処理時の基板の熱膨張率の差による基板からの残留応力の影響のため、相転移開始温度に差があることが判った。さらに熱処理時間を90分～4時間まで変化させると基板からの応力の緩和にしたがって相転移開始温度が低温側から高温側へシフトすることが判った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 146 Kバイト