アモルファス薄帯Co69Fe4Ni1Mo2Si12B12の熱処理効果と応力磁化特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-168

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Peculiar Stres-Magnetization Change in Amorphous Ribbon Co69Fe4Ni1Mo2Si12B12 due to Heat Treatment

著者名: 石見 芳夫(岐阜大学),岡崎 靖雄(岐阜大学),齊藤皓彦 (福岡女学院大学)

著者名(英語): Yoshio Iwami(Gifu University),Yasuo Okazaki(Gifu University),Akihiko Saito(Fukuoka Jo Gakuin University )

キーワード: コバルト基アモルファス|応力磁化|磁界中熱処理|磁歪定数|応力非依存領域|誘導磁気異方性

要約(日本語): 負の磁歪定数を持つCo基アモルファス磁性薄帯に熱処理を施すと、応力の印加に対して磁化が増加する現象や、応力に対して磁化が変化しない、応力非依存領域が現れる。しかしながら、Co基アモルファス薄帯の応力磁化変化の機構についてはまだ十分に解明されているとはいえない。本報告は、Co基アモルファス薄帯の持つ特異な応力磁化特性とその発生原因について、磁界中（リボン軸方向、幅方向、厚み方向）、および無磁界中熱処理で得られた応力磁化特性変化から磁化機構を検討したものである。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 159 Kバイト