磁性体／誘電体ハイブリッド伝送線路デバイス用Fe/NiO交換結合膜の基礎特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-196

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Basic Characteristics of Fe/NiO Exchange Coupled Film for Magnetic/Dielectric Hybrid Transmission-Line Devices

著者名: 曽根原 誠(信州大学),中山 英俊(信州大学),佐藤敏郎 (信州大学),山沢清人 (信州大学),森迫 昭光(信州大学),松本 光功(信州大学)

著者名(英語): Makoto Sonehara(Shinshu University),Hidetoshi Nakayama(Shinshu University),Toshiro Sato(Shinshu University),Kiyohito Yamasawa(Shinshu University),Akimitsu Morisako(Shinshu University),Mitsunori Matsumoto(Shinshu University)

キーワード: 伝送線路デバイス|強磁性／反強磁性交換結合膜

要約(日本語): GHz帯を動作周波数とする磁性体／誘電体ハイブリッド伝送線路デバイス用磁性材料として，Fe/NiO交換結合膜の作製と基礎特性の評価を行った．1μmの熱酸化膜付きSi基板を用い，純Niをターゲットとした酸素反応性DCスパッタ法でNiO膜を作製し，純FeをターゲットとしたDCスパッタ法でFe膜を作製した．100nm 厚NiO膜と10nm厚Fe膜の組み合わせで作製した二層膜は，磁化容易軸方向において約11Oeの磁化曲線のシフトが観測され，Fe/NiO膜における交換結合の発現が確認された．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 147 Kバイト