二重注入型薄膜Siダイオード磁気センサの低電圧・小型化の検討

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-108

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Study on low voltage operation and miniaturization of thin film Si double injection　magnetodiode

著者名: 瀬野尾 和隆(東北学院大学),千葉 猛志(東北学院大学),木村 光照(東北学院大学)

著者名(英語): Kazutaka Senoo(Tohoku-Gakuin University),Takeshi Chiba(Tohoku-Gakuin University),Mitsuteru Kimura(Tohoku-Gakuin University)

キーワード: 磁気ダイオード|SOI|二重注入|センサ|半導体

要約(日本語): 我々は、SOI基板上に製作した長さL, 幅W, 厚みdがそれぞれ、100、40、6μm程度のSi薄膜ダイオード磁気センサを提案し、研究してきた。そこでは10V以上の比較的高い電圧を印加することにより比較的高い磁気感度を得ていた。今回、更に相対的に小型化することにより、印加電圧4V程度の低電圧駆動が可能となり、1kOe当たり電流変化率10%程度のほぼ同程度の磁気感度を得ることができたので報告する。本磁気センサはSiを用いている為にIC化することができ、乾電池の電圧で動作し、低消費電力である為にハンディで、かつ、ダイナミックレンジの大きな磁気センサデバイスとして有望であると考えている。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 144 Kバイト