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ナノ構造物の測定・評価への応用を目指した対向型Siナノプローブの製作

ナノ構造物の測定・評価への応用を目指した対向型Siナノプローブの製作

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-160

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Fabrication of Opposed Si Nanoprobes for Measurement and Evaluation of Nano-scale Structure

著者名: 野澤 尚幸(東京大学),角嶋 邦之(東京大学),橋口 原(香川大学),和田 恭雄(日立製作所),遠藤 順二(日立製作所),藤田 博之(東京大学)

著者名(英語): Naoyuki Nozawa(The University of Tokyo),Kuniyuki Kakushima(The University of Tokyo),Gen Hashiguchi(Kagawa University),Yasuo Wada(ARL,Hitachi,Ltd.),Junji Endo(ARL,Hitachi,Ltd.),Hiroyuki Fujita(The University of Tokyo)

キーワード: ナノプローブ|結晶異方性エッチング|電界放出

要約(日本語): マイクロマシン作製技術を利用して互いに向き合った2本の鋭いプローブを作製したこのプローブはSiを用いて作製しており、機械的特性に優れている。このプローブ先端の曲率半径は数十ナノメートルのオーダであり、プローブ間のギャップは1マイクロメートル以下である。このプローブはナノメートルオーダの構造物の電気的・機械的特性の評価などへの応用の可能性があると考えられる。例えば、真空中においては電界電子放出用のエミッタとして用いることが出来る。あるいは将来的にはアクチュエータと組み合わせてタンパク質分子やDNAなどを掴んでその性質を調べるといった用途にも応用が可能であると考えている。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 200 Kバイト

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