半導体製造装置における目標速度パターンの与え方に関する一考察

カテゴリ: 全国大会

論文No: 4-199

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): A consideration on reference speed pattern for position control using semi-conductor assembly machines

著者名: 島村 純児(オムロン)

著者名(英語): Junji Shimamura(OMRON Corporation)

キーワード: モーションコントロール|位置決め制御|速度目標値

要約(日本語): 半導体製造装置における位置決め制御系では，装置タクトタイム向上のため位置決め時間の短縮が要求されている．その実現には，高加減速を行う必要がある．しかし，静止摩擦の影響や停止時の残留振動の発生など，新たな課題が発生している．本稿では，加速時に問題となる静止摩擦の影響，および減速時の残留振動を考慮した最適な目標速度パターンの与え方について報告を行う．本内容は，装置メーカがノウハウ的に用いている目標速度パターンを制御論的観点から考察したものである．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 251 Kバイト