周期的な溝状ピンニングセンターにおける磁束ピン止め特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 5-018

グループ名: 【全国大会】平成14年電気学会全国大会論文集

発行日: 2002/03/26

タイトル(英語): Flux Pinning Property of Periodic Groove-shaped Pinning Centers

著者名: 山田 博(山口大学),岩本 忠司(山口大学),須貝 圭吾(山口大学),原田 直幸(山口大学),津田 理(山口大学),浜島 高太郎(山口大学)

著者名(英語): Hiroshi Yamada(Faculty of Engineering,Yamaguchi University),Tadashi Iwamoto(Faculty of Engineering,Yamaguchi University),Keigo Sugai(Faculty of Engineering,Yamaguchi University),Naoyuki Harada(Faculty of Engineering,Yamaguchi University),Makoto Tsuda(Faculty of Engineering,Yamaguchi University),Takataro Hamajima(Faculty of Engineering,Yamaguchi University)

キーワード: 磁束ピンニング|磁化ヒステリシス|Nb薄膜|リソグラフィー|人工ピンニングセンター

要約(日本語): 次世代の高温超伝導線材の高電流密度化には、効果的な磁束ピンニングセンターが不可欠である。人工的に導入する磁束ピンニングセンターの効果について、超伝導Nb薄膜を用いて、ピンニング効果を理論的に解析し実験値と特性の比較、検討を行った。人工ピンニングセンターとして周期的な配置をもつ溝状、穴状のパターンを、リソグラフィーにより加工した。溝状の人工ピンニングセンターの導入により臨界電流密度は増加を示し、理論的な巨視的ピン力密度に対応して、溝の周期に反比例し深さに比例することを確認した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 218 Kバイト