放電処理された高分子材料表面のフォトルミネセンスによる解析II-酸素含有の極性基によるＰＬスペクトルの変化-

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-095

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): Analysis of Photoluminescence on Polystyrene Surface by Plasma Processing - Change of PL spectrum by polar group including oxygen

著者名: 北川 元(武蔵工業大学),植竹 行成(武蔵工業大学),湯本 雅恵(武蔵工業大学)

著者名(英語): Gen Kitagawa(Musashi Institute of Technology),Yukinari Uetake(Musashi Institute of Technology),Motoshige Yumoto(Musashi Institute of Technology)

キーワード: 放電処理|フォトルミネセンス|ポリスチレン|極性基|カルボキシル基

要約(日本語): 放電処理による高分子材料表面の変化をその場検出する為に、フォトルミネセンス(PL)が有効である事を報告してきた。しかし導入される極性基の特定を行うためには、放電処理によって形成される極性基を含んだ構造をモデル化し、実際の放電処理によるPLスペクトルの変化と対比する必要があると考える。今回の報告では、ポリスチレンを試料として用い、分析の結果放電処理によって多く導入されたカルボキシル基に着目し、カルボキシル基が含まれている構造として安息香酸を用いて、そのPLを観測し、放電処理した試料のPL変化と比較した結果を報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,057 Kバイト