低真空アーククリーニング法の溶射前処理への適用 -平均粗さに対する電流の影響-

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-111

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): Application of Low Vacuum Arc Cleaning for Pre-treatment of Plasma Spray -Infuluence of Arc Current on Average Roughness-

著者名: 前薗 悟(中央大学),久保 祐也(中央大学),武田 紘一(秋田県立大学),戸部 省吾(足利工業大学),稲葉 次紀(中央大学),岩尾 徹(日本学術振興会)

著者名(英語): Satoru Maezono(Chuo University),Yuya Kubo(Chuo University),Koichi Takeda(Akita Prefectural University),Syogo Tobe(Ashikaga Institute of Technology),Tuginori Inaba(Chuo University),Toru Iwao(JSPS )

キーワード: 低真空アーククリーニング|陰極点|溶射前処理|平均粗さ

要約(日本語): 溶射皮膜を成膜する前に，皮膜との密着強度を向上させるために，ブラスト法等により基材表面の清浄化と粗面化が行われる。しかし，ブラスト法では騒音・粉塵等の問題を抱えている。それらの問題を解決するために，低真空で形成される陰極点の移動作用と選択性を利用して，ブラスト法の対価技術として適用を試みた。本論文では皮膜との密着性に関わる平均粗さに着目し，酸化膜除去後の平均粗さに対する電流値の影響について検討した。結果として電流値の違いにより，平均粗さに大きな変化は見られず，電流値の増加に伴い陰極点が比例的に増加し，酸化膜除去完了時間が短縮される結果を得た。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 359 Kバイト