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平行平板型 RF プラズマにおける電子密度分布の測定

平行平板型 RF プラズマにおける電子密度分布の測定

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-117

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): Measurement of Electron Density Distribution of Parallel-Plate RF Plasma in Ar

著者名: 田島伸治郎 (中央大学),遠藤正雄 (中央大学),雨宮宏 (理化学研究所)

キーワード: RF プラズマ|等価回路|電子密度分布

要約(日本語): 半導体ドライプロセスなどのプラズマ応用に用いられる平行平板型 RF プラズマの放電状態を理解するには, その維持機構がどのようなものであるかを選択し, シミュレーションや等価的なモデリングにより考える必要がある. 特に, 容量性シースを介して導入される容量結合型放電の場合, その制御パラメタにより放電機構は Joule 加熱や統計的加熱機構などを持ち, 最も簡単な平行平板型対称放電でさえ自己整合的にモデリングすることは困難である. そこで, 簡単化のための様々な仮定のもとにつくられる等価回路によるプラズマの電気的特性との比較検討のため, 実際の放電空間での測定を行った.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 156 Kバイト

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