キャピラリィＺピンチ放電プラズマを用いたＥＵＶ光源の開発

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-132

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): Development of EUV Light Source using Capillary Z-Pinch Discharge Produced Plasma

著者名: 渡辺 正人(東京工業大学),笠尾 哲(東京工業大学),岡本 光男(東京工業大学),宋仁皓 (東京工業大学),沖野 晃俊(東京工業大学),堀岡 一彦(東京工業大学),堀田 栄喜(東京工業大学)

著者名(英語): Masato Watanabe(Tokyo Institute of Technology),Tetsu Kasao(Tokyo Institute of Technology),Mitsuo Okamoto(Tokyo Institute of Technology),In Ho Song (Tokyo Institute of Technology),Akitoshi Okino(Tokyo Institute of Technology),Kazuhiko Horioka(Tokyo Institute of Technology),Eiki Hotta(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: キャピラリィ放電|Ｚピンチ放電|ＥＵＶ光|予備電離

要約(日本語): 半導体の急激な高集積化にともない、光リソグラフィにおける光源の短波長化が急務の開発課題になっている。現在、波長13～14nmのEUV光が、次世代リソグラフィ用光源の最有力候補になっている。EUV光の発生法のうち、放電プラズマを用いる方式は、装置の構造が単純・小型、光子あたりのコストが低い、等の利点があり光源としては非常に魅力的である。著者らは、これまでキャピラリィ放電を用いた軟X線レーザの発振実験に成功しており、この技術をEUV光源開発へ応用しようと、Zピンチ放電を用いたEUV光の発生に関する研究を進めている。本研究では、現在開発中のキャピラリィZピンチ放電プラズマを用いたEUV光源の特性について現状を報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 937 Kバイト