低エネルギーイオン照射によるPMMAの表面改質ー深さ方向の組成分析ー

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-139

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): Surface Modification of PMMA using Low Energy Ion Irradiation-Depth Profile of Composition

著者名: 金井 弘士(武蔵工業大学),浜村 尚樹(武蔵工業大学),湯本 雅恵(武蔵工業大学)

著者名(英語): Hiroshi Kanai(Musashi Institute of Technology),Naoki Hamamura(Musashi Institute of Technology),Motoshige Yumoto(Musashi Institute of Technology)

キーワード: イオン照射|XPS|PMMA|深さ方向の組成分析

要約(日本語): 著者らは、低エネルギーの窒素イオンを照射し、透明性に優れた高分子材料として知られるPMMAの表面改質を行っている。これまで、XPS角度分解分析法を用い、改質層の深さ方向の組成分析を行ってきた。その結果、加速電圧1kVでイオン照射を行うと1.5nmより浅い領域で炭素の密度が増加し、窒素は3.5nm付近にピークを示す分布形状となることを報告した。今回は、加速電圧100Vで処理した際の深さ方向の組成分析を行った。100Vを選択したのは、共有結合(sp3結合)生成に有効との報告があるためであり、報告では組成分布の結果と合わせ、表面の硬度について言及する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 703 Kバイト