WTD法における短絡電流とデンドライトの三次元形状の関係

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-019

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): The Relation of 3D Shape of Dendrite and Short-circuit Current evaluated by WTD Method

著者名: 吉村 昇(秋田大学),水戸部 一孝(秋田大学),唐超 (秋田大学)

著者名(英語): Noboru Yoshimura(akita unversity),kazutaka mitobe(akita unversity),chao tang(akita unversity)

キーワード: マイグレーション|デンドライト|表面形状

要約(日本語): 本論文では３次元形状計測システムを用いて、WTD法により発生させたデンドライトの３次元形状を計測し、保護抵抗を変えた時の短絡電流とデンドライトの経時変化について調べた。その結果、短絡後では不平等電界電極の陽極側の蓄積物が陰極側より多いことがわかった。単位電荷あたりの発生量は保護抵抗と直線の関係があることを確認した。保護抵抗値が大きくなると単位電荷あたりの蓄積物の体積は大きくなった。短絡後の時間が長くなると単位電荷あたりの発生量が減少する。同じ保護抵抗値では不平等電界の単位電荷あたりの発生量が平等電界より小さいことがわかった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,087 Kバイト