PLD法によるオキシサルファイドの熱電素子化

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-023

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): Formation of a thermoelement of Oxysulfides Films by the Pulse Laser Deposition method

著者名: 小林 将太郎(日本大学),高瀬 浩一(日本大学),鈴木 薫(日本大学)

著者名(英語): Shotaro Kobayashi(College of Science and Techonology Nihon University),kouichi Takase(College of Science and Techonology Nihon University),Kaoru Suzuki(College of Science and Techonology Nihon University)

キーワード: レーザアブレーション|熱電素子

要約(日本語): 熱エネルギーを電気エネルギーに直接変換する熱電材料は、小型、高信頼性、長寿命などの特徴を持ち、熱電発電やセンサなどに利用されている。しかし、発電効率が低く、コストが高いなどの問題点があるため、高い発電効率が得られる熱電材料が求められている。我々はこの熱電材料としてオキシサルファイド（LaOCuS）を検討している。今回はエキシマレーザ（ArF）によりMgO基板上に成膜し、熱処理を加えた薄膜の物性について報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,051 Kバイト