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バナジルフタロシアニン薄膜の有機ガス処理の膜厚依存性

バナジルフタロシアニン薄膜の有機ガス処理の膜厚依存性

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-111

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): Thickness Dependence of Organic Gas Treatment of Vanadyl-Phthalocyanine Thin Films

著者名: 加藤祐紀 (愛知工業大学),阿部 誠司(愛知工業大学),澤 五郎(愛知工業大学),内田 悦行(愛知工業大学),大橋 朝夫(愛知工業大学),小嶋 憲三(愛知工業大学),落合 鎮康(愛知工業大学)

著者名(英語): Hironori Kato(Aichi Inst. of Tech.),Seiji Abe(Aichi Inst. of Tech.),Goro Sawa(Aichi Inst. of Tech.),Yoshiyuki Uchida(Aichi Inst. of Tech.),Asao Ohashi(Aichi Inst. of Tech.),Kenzou Kojima(Aichi Inst. of Tech.),Shizuyasu Ochiai(Aichi Inst. of Tech.)

キーワード: バナジルフタロシアニン|ポリイミド|分子線エピタキシー装置|有機ガス処理

要約(日本語): 非線形光学材料の一つであるバナジルフタロシアニン(VOPc)は、光スイッチ、光メモリなどの光エレクトロニクスへ応用が期待されているため近年注目されている。現在、ポリイミド(PI)基板上に作製されたVOPc薄膜の形態と非線形光学特性は十分に明らかにされていない。基板にPIを用いたのは、耐熱性、加工性に優れていること、さらにはPIが非線形光学特性を有しているためである。本報告では、分子線エピタキシー法により、PI基板上にVOPc薄膜を作製したものと、作製後、有機ガス処理を施した薄膜の形態と非線形光学特性を検討した。メーカーフリンジ法により測定された第2次高調波(SH)強度の入射角依存性から、有機ガス処理が配向改善に有効であることが示唆された。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 494 Kバイト

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