KBr基板上に作製されたバナジルフタロシアニン薄膜の形態の基板予備加熱効果

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-112

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): Effect of Preheating of Morphologies in Vanadyl-Phthalocyanine Thin Film Fabricated on KBr Substrate

著者名: 山口 哲弘(愛知工業大学),加藤 和彦(愛知工業大学),澤 五郎(愛知工業大学),内田 悦行(愛知工業大学),小嶋 憲三(愛知工業大学),大橋 朝夫(愛知工業大学),落合 鎮康(愛知工業大学)

著者名(英語): Tetsuhiro Yamaguchi(Aichi Inst. of Tech.),Kazuhiko Kato(Aichi Inst. of Tech.),Goro Sawa(Aichi Inst. of Tech.),Yoshiyuki Uchida(Aichi Inst. of Tech.),Kenzou Kojima(Aichi Inst. of Tech.),Asao Ohashi(Aichi Inst. of Tech.),Shizuyasu Ochiai(Aichi Inst. of Tech.)

キーワード: バナジルフタロシアニン|臭化カリウム|分子線エピタキシー|基板予備加熱処理

要約(日本語): バナジルフタロシアニン（VOPc）薄膜はレーザ光入射により種々の非線形光学効果を発現することから、光デバイスへの応用が期待されている。今回、分子線エピタキシー（MBE）法によりKBr基板上に作製されたVOPc薄膜の形態と非線形光学特性に及ぼす基板予備加熱効果を報告する。メーカー・フリンジ測定でのTH強度の大きさは、基板予備加熱温度を最も高い温度で処理した試料が一番高い値を示した。これは高温基板予備加熱処理で基板表面の吸着ガスが十分に除去され、クリーンな状態となることで薄膜がエピタキシー成長しやすいことを示唆する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 552 Kバイト