LB法により作製された(t-Bu)4VOPc膜の形態と膜厚依存性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-115

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): Thickness Dependence of Morphologies in (t-Bu)₄ VOPc Thin film

著者名: 内田 三郎(愛知工業大学),澤 五郎(愛知工業大学),内田 悦行(愛知工業大学),大橋 朝夫(愛知工業大学),小嶋 憲三(愛知工業大学),落合 鎮康(愛知工業大学)

著者名(英語): Saburo Uchida(Aichi Institute of Technology),Goro Sawa(Aichi Institute of Technology),Yoshiyuki Uchida(Aichi Institute of Technology),Asao Ohashi(Aichi Institute of Technology),Kenzo Kojima(Aichi Institute of Technology),Shizuyasu Ochiai(Aichi Institute of Technology)

キーワード: テトラターシャルブチルバナジルフタロシアニン|単分子累積膜|UV/VISスペクトル|メーカーフリンジ法|LB法

要約(日本語): 我々は，LB法によりテトラターシャルブチルバナジルフタロシアニン(t-Bu)4 VOPc薄膜を作製し，非線形光学特性を検討し，熱処理や有機ガス処理することにより配向性が向上することを報告してきた。今回は，累積数を20層，30層，40層と増やし，その形態をUV/VISスペクトルならびにメーカーフリンジ法による非線形光学特性から検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 437 Kバイト