全反射減衰法による銅フタロシアニン薄膜の光電変換特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-122

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): Photovoltaic properties of CuPc thin films utilizing attenuated total reflection

著者名: 高橋 大(新潟大学),志村 史雄(新潟大学),新保 一成(新潟大学),加藤景三 (新潟大学),金子 双男(新潟大学),川上 貴浩(新潟大学),若松 孝(茨城工業高等専門学校)

著者名(英語): Futoshi Takahashi(Niigata University),Fumio Shimura(Niigata University),Kazunari Shinbo(Niigata University),Keizo Kato(Niigata University),Futao Kaneko(Niigata University),Takahiro Kawakami(Niigata University),Takashi Wakamatsu(Ibaraki National College of Technology)

キーワード: 全反射減衰法|銅フタロシアニン|有機分子薄膜|表面プラズモン|光電変換

要約(日本語): 金属薄膜表面に局在する電磁波モードである表面プラズモンをデバイスに応用する研究が、近年高まりをみせている。表面プラズモンは可視光の全反射減衰法を用いることで、金属薄膜の表面でエバネセント場と結合し共鳴励起される。この性質をもちいて、本研究ではCuPc薄膜の光電変換特性への影響を調べた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 885 Kバイト