Layer-by-layer法併用によるスパッタ微結晶シリコン薄膜の成長

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-143

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): Preparation of Microcrystalline Silicon Thin-Film by Magnetron Sputtering Using Layer-by-layer method

著者名: 岡田 和宏(名古屋大学),田畑 彰守(名古屋大学),鈴置 保雄(名古屋大学),水谷 照吉(名古屋大学)

著者名(英語): Kazuhiro Okada(Nagoya University),Akimori Tabata(Nagoya University),Yasuo Suzuoki(Nagoya University),Teruyosi Mizutani(Nagoya University)

キーワード: 微結晶シリコン|マグネトロンスパッタリング|Layer-by-layer|アモルファスシリコン|X線回折

要約(日本語): 微結晶シリコン薄膜（μc-Si:H）は現在、薄膜型太陽電池の低価格化・高効率化へ導く材料として現在注目を集めている。本研究では、RFマグネトロンスパッタリング法を用いて、成膜中に水素・アルゴンガス流量を変化することにより、微結晶核形成と膜成長の繰り返しによる成膜（Layer-by-layer法）を併用し、μc-Si:H膜を作成し、Layer-by-layer法の有効性について評価している。Layer-by-layer法を用いることにより、結晶核が形成されれば通常法では微結晶が形成成長しない条件下でも微結晶が成長することがわかった。また、微結晶成長が大きい水素分圧比100％の条件のときよりも、1桁程度速い膜堆積速度でμc-Si:Hの作成ができることがわかった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 704 Kバイト