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(CoFeB)-(SiO2)系軟磁性膜の高電気抵抗と渦電流の抑制効果

(CoFeB)-(SiO2)系軟磁性膜の高電気抵抗と渦電流の抑制効果

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-154

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): High Resistivity and Eddy Current Supression of Soft Magnetic (CoFeB)-(SiO2) Thin Films

著者名: 宗像誠 (祟城大学),並河雅志 (祟城大学),八木正昭 (祟城大学),本山真潮 (デルタワークス),島田寛 (東北大学),藪上信 (東北大学),山口正洋 (東北大学),荒井賢一 (東北大学)

キーワード: 渦電流|高電気抵抗|ヘテロアモルファスグラニュラー構造|(CoFeB)-(SiO2)系軟磁性膜|高周波比透磁率特性|抑制効果

要約(日本語): ヘテロアモルファス構造を持つ(CoFeB)-(SiO2)系高電気抵抗軟磁性膜が,円筒電極三元同時RFマグネトロンスパッタ法より,製膜された.この膜は従来の100倍以上の高電気抵抗率を持つためGHz帯まで優れた高周波透磁率特性を示す.本研究では,高電気抵抗率による渦電流の抑制効果を検証することを目的とし,高周波透磁率特性の膜厚依存性を検討した.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 764 Kバイト

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