NiFe/CoFe系積層薄膜の作製評価とゼロスピードセンサへの応用

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-155

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): Fabrication of NiFe/CoFe multilayer thin film and its application for zero-speed sensor

著者名: 井上 武士(横浜国立大学),西本 雅彦(横浜国立大学),宮良 一史(横浜国立大学),山田 努(横浜国立大学),竹村 泰司(横浜国立大学)

著者名(英語): Takeshi Inoue(Yokohama National University),Masahiko Nishimoto(Yokohama National University),Kazufumi Miyara(Yokohama National University),Tsutomu Yamada(Yokohama National University),Yasushi Takemura(Yokohama National University)

キーワード: 磁性薄膜|大バルクハウゼンジャンプ|速度センサ

要約(日本語): RFマグネトロンスパッタ法によりSi基板上に作製したNiFe/CoFe系2層薄膜における磁界誘起パルス電圧を評価した．保磁力の大きいCoFe層を磁化固定層として，保磁力の小さいNiFe膜を外部印加磁界により磁化反転させた．NiFe層の磁化がCoFe層の磁化方向に対して反平行であるときが安定状態だが，その反平行磁化から平行磁化になる際に大きな出力が得られることがわかっている．この出力電圧は低周波数領域でも安定して得られることから速度センサとして有用であるとの知見を得た．さらにNiFe/CoFe層間に挟んだAl2O3中間層の膜厚依存性に関しても検討した．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 925 Kバイト