LIGA用X線マスクの吸収体材料の影響に関する研究

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-156

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): The effect of the absorber material of X-ray mask for LIGA

著者名: 瀧口 欣司(姫路工業大学),植田 寛康(姫路工業大学),福田 義博(姫路工業大学),石垣 博行(姫路工業大学),服部 正(姫路工業大学)

著者名(英語): Kinji Takiguchi(Himeji Institute of Technology),Hiroyasu Ueda(Himeji Institute of Technology),Yosihiro Fukuda(Himeji Institute of Technology),Hiroyuki Ishigaki(Himeji Institute of Technology),Tadashi Hattori(Himeji Institute of Technology)

キーワード: LIGA|X線マスク|X線透過量|表面粗度

要約(日本語): 情報通信技術，バイオ・医療応用技術など，今後発展が期待される産業技術分野では３次元マイクロ構造体が必要となる．そこで注目されているのがLIGAプロセスである．しかし，従来のプロセスのX線リソグラフィではX線マスク上のパターンをそのままレジストに転写するため，任意の３次元マイクロ構造体を加工することは困難である．そこで本研究では，新たに提案した放射光強度分布制御による３次元加工法に用いるX線マスクの吸収体材料の加工深さと表面粗度特性に対する影響について調べた．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 686 Kバイト