放射光と高速原子線表面改質を用いた神経再生電極の作製
放射光と高速原子線表面改質を用いた神経再生電極の作製
カテゴリ: 全国大会
論文No: 3-158
グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集
発行日: 2003/03/17
タイトル(英語): Fabrication of nerve recovery electrodes using SR-LIGA and fast atom beam surface modification
著者名: 岸本 武文(姫路工業大学),内海 裕一(姫路工業大学),奥田 孝一(姫路工業大学),満渕 邦彦(東京大学),服部 正(姫路工業大学)
著者名(英語): Takefumi Kishimoto(Himeji Institute of Technology),Yuichi Utsumi(Himeji Institute of Technology),Koichi Okuda(Himeji Institute of Technology),Kunihiko Mabuti(The Unibersity of Tokyo),Tadashi Hattori(Himeji Institute of Technology)
キーワード: 神経再生電極|高速原子線|表面改質
要約(日本語): 近年、マイクロシステム技術はよりいっそう具体的な応用を明確に意識した情報通信技術、バイオ・医療応用技術が著しい進歩を遂げており、それらの基盤となるプロセスや材料などにおいても、新たな展開がおこりつつある。得にバイオ・医療応用分野においては、従来の治療方法・器具とはまったく違った新たな技術が求められており、これらを実現するにはシリコンだけでなく金属、セラミック、樹脂等の異種材料から構成されるデバイスの高精度、低コストな加工、組立技術の開発が必要である。そこで注目されているのが放射光(SR)を用いたLIGAプロセスである。SRは最小寸法サブμm、最大高さ1mm以上の加工が精度よくできるという特徴を持っている。
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 799 Kバイト
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