磁気ナイフ法による限流素子用超伝導薄膜の臨界電流密度分布測定

カテゴリ: 全国大会

論文No: 5-133

グループ名: 【全国大会】平成15年電気学会全国大会論文集

発行日: 2003/03/17

タイトル(英語): J_c distribution measurement by magnetic knife method in a YBCO thin film for fault current limiter

著者名: 宮下 宗丈(横浜国立大学),雨宮 尚之(横浜国立大学),井上 邦章(Super-GM)

著者名(英語): Munetake Miyashita(Yokohama National University),Naoyuki Amemiya(Yokohama National University),Kuniaki Inoue(Super-GM)

キーワード: 磁気ナイフ|限流素子|臨界電流密度分布|YBCO薄膜

要約(日本語): 近年，YBCO薄膜を用いた限流素子の開発が進められている．今回，限流素子用のYBCO薄膜の幅方向臨界電流密度分布測定を磁気ナイフ法により行ったので報告する．今回は基盤がある素子のためギャップ間隔を以前より広げて測定を行った．ギャップ間隔を広げたため重み関数も以前より開きが大きくなった．臨界電流密度は磁界依存性があり，磁界が零になるヌルライン近傍に電流は絞られて流れる．従って線材幅方向にわたってヌルラインを走査することによって「電流路が絞られた」臨界電流のx方向分布を求め，これを数学的に解析することで臨界電流密度のx方向分布が得られる．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 892 Kバイト