SF6/N2ガス中の電子付着及び電離衝突過程解析

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-072

グループ名: 【全国大会】平成16年電気学会全国大会論文集

発行日: 2004/03/17

タイトル：SF₆/N₂ガス中の電子付着及び電離衝突過程解析

タイトル(英語): Analysis of Electron Attachment and Ionization Collision in SF₆/N₂ Gas Mixtures

著者名: 広地 祐樹(北海道大学),石垣 卓也(北海道大学),菅原 広剛(北海道大学),酒井 洋輔(北海道大学)

著者名(英語): Yuuki Hirochi(Hokkaido University),Takuya Ishigaki(Hokkaido University),Hirotake Sugawara(Hokkaido University),Yosuke Sakai(Hokkaido University)

キーワード: 電子衝突過程|絶縁ガス|SF₆|N₂|付着|電離

要約(日本語): これまで著者らはSF₆ガスにN₂ガスを混合した際に見られる絶縁特性の相乗効果について定量的に評価すべく研究を行ってきた。絶縁性能を高めるには、電子の付着の促進と同時に電離の抑制が重要となる。そこで今回は、これまで解析を行ってきた電子が付着に至るまでの過程に加え、電離に至るまでの過程にも注目し、電子エネルギー変化の履歴をモンテカルロ法を用いて解析した結果について報告する。N₂には2-3eV付近の振動励起衝突、弾性衝突により電子を低エネルギー部に閉じ込め電子付着を促す働きがある。また、2-3eVを越えた一部の電子は短時間で加速し電離衝突を起こすようになるといった傾向が見られた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,066 Kバイト