CHF3分子の電子衝突断面積に関する研究

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-074

グループ名: 【全国大会】平成16年電気学会全国大会論文集

発行日: 2004/03/17

タイトル：CHF₃分子の電子衝突断面積に関する研究

タイトル(英語): A Study on Electron Collision Cross Sections for CHF₃

著者名: 三谷 正宏(慶應義塾大学),諸隈之彦 (慶應義塾大学),中村 義春(慶應義塾大学)

著者名(英語): Masahiro Mitani(Keio University),Yukihiko Morokuma(Keio University),Yoshiharu Nakamura(Keio University)

キーワード: CHF3|電子スオーム法|電子衝突断面積|電子ドリフト速度|縦方向拡散係数|実効電離係数

要約(日本語): CF₄の代替ガスとしてプラズマエッチングに用いられているCHF₃の電子衝突断面積セットを電子スオーム法により求めることを目的とし、CHF3気体中の電子輸送係数として、純粋CHF₃気体とCHF₃-Ar混合気体中の電子ドリフト速度、縦方向拡散係数をTOF法を用いて、純粋CHF₃気体中の電離係数、付着係数をSST法を用いて測定した。電子輸送係数の計算にはBoltzmann方程式の二項近似解析を用いた。今回は特に振動励起断面積の修正を行い、混合気体中の輸送係数を再現するよう修正を行った結果、しきい値付近に非常に狭いピークを持ち、7eV付近に共鳴的なピークを持つ断面積が得られた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 713 Kバイト