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両極性パルス加速器の開発

両極性パルス加速器の開発

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-190

グループ名: 【全国大会】平成16年電気学会全国大会論文集

発行日: 2004/03/17

タイトル(英語): Development of bipolar pulse accelerator

著者名: 清水 悠一郎(富山大学),冨田 隆行(富山大学),藤岡 裕貴(富山大学),北村 岩雄(富山大学),升方 勝己(富山大学),田上 尚男(産業技術総合研究所),荒井 和雄(産業技術総合研究所)

著者名(英語): yuitiro shimizu(Toyama University),takayuki tomita(Toyama University),yuki Fujioka(Toyama University),iwao kitamura(Toyama University),katumi masugata(Toyama University),hisao tanoue(National Institute of Advanced Industry Science and Technology),kazuo arai(National Institute of Advanced Industry Science and Technology)

キーワード: パルスイオンビーム

要約(日本語): パルス重イオンビームを用いたパルスイオン注入法は、注入時の熱付与によって注入とアニール処理が同時に行えることから、SiCなどの高融点半導体への応用が期待されている。しかし、従来のパルスイオンビームではイオンの純度が低いという問題があった。そこで、我々はパルスイオンビームのイオン純度向上を目的として両極性パルス加速器の開発を行っている。今回、両極性パルス加速器の初段加速ギャップを開発し、その動作特性を評価したので報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 705 Kバイト

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