小型トカマク装置を用いた深い電位井戸の形成とその構造に関する研究

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-196

グループ名: 【全国大会】平成16年電気学会全国大会論文集

発行日: 2004/03/17

タイトル(英語): Formation and Structure of Deep Negative Potential Well on Small Tokamak Device

著者名: 岡田 享大(名古屋大学),福澤 祐馬(名古屋大学),小島 寛樹(名古屋大学),大野哲靖 (名古屋大学),高村 秀一(名古屋大学)

著者名(英語): Okada Takahiro(Nagoya University),Fukuzawa Yuma(Nagoya University),Kojima Hiroki(Nagoya University),Ohno Noriyasu(Nagoya University),Takamura Shuichi(Nagoya University)

キーワード: トカマク|中性子源|慣性静電閉じ込め核融合

要約(日本語): 小型トカマク装置の新たな応用として中性子源の開発の可能性を目指した深い電位井戸形成の研究を行っている。高密度プラズマ中に設置された電極に単純に負電圧を印加しても、電極付近にできるシース中に電場が局在化してしまい電場をプラズマ中に大域的に印加することができない。そこで本研究は電極からアークに伴う多量の径方向電流を流すことでプラズマ中の広い範囲に径方向電場の形成を行い、本手法を用いてトカマクプラズマへの負電位井戸構造の形成に関する実験パラメータの依存性を調べた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 711 Kバイト