リソグラフィ用極端紫外光源の高出力化に関する研究

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-207

グループ名: 【全国大会】平成16年電気学会全国大会論文集

発行日: 2004/03/17

タイトル(英語): Reserch on Output Power Enhancement of EUV Light Souece

著者名: 岡本 光男(東京工業大学),宋仁皓 (東京工業大学),北出 恵太(東京工業大学),林 靖(東京工業大学),Majid Masnavi(東京工業大学),渡辺 正人(東京工業大学),沖野 晃俊(東京工業大学),安岡 康一(東京工業大学),堀岡 一彦(東京工業大学),堀田 栄喜(東京工業大学)

著者名(英語): Mitsuo Okamoto(Tokyo Instisute of Technology),Inho Song(Tokyo Instisute of Technology),Keita Kitade(Tokyo Instisute of Technology),Yasushi Hayashi(Tokyo Instisute of Technology),Majid Masnavi(Tokyo Instisute of Technology),Masato Watanabe(Tokyo Instisute of Technology),Akitoshi Okino(Tokyo Instisute of Technology),Koichi Yasuoka(Tokyo Instisute of Technology),Kazuhiko Horioka(Tokyo Instisute of Technology),Eiki Hotta(Tokyo Instisute of Technology)

キーワード: リソグラフィ|放電|極端紫外

要約(日本語): 半導体プロセスの高集積化に伴って光リソグラフィ用光源の短波長化が求められており、次世代の光源として、キセノン放電プラズマを用いた波長13～14 nmのEUV(極端紫外)光源が注目されている。しかし、現在までに開発されているEUV光源は量産時に必要とされる出力を達成できていない。EUVの変換効率を改善するためには、効果的にプラズマを加熱する必要があり、これには放電電流立ち上がりの高速化が有効である。そこで本研究では、電流立ち上がりの高速化を目的として、電源回路に一段の磁気パルス圧縮システムを適応することにより、主放電回路のインダクタンスの低減を行った。この改良の効果を評価するため、フォトダイオードを用いてEUV出力の測定を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 754 Kバイト