高周波プラズマによる半導体ガス処理条件時の磁界分布特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-209

グループ名: 【全国大会】平成16年電気学会全国大会論文集

発行日: 2004/03/17

タイトル(英語): Magnetic field distribution in semiconductor gas treatment by the high frequency plasma

著者名: 須加 貴文(中央大学),木村 健二(中央大学),久保 祐也(中央大学),岩尾 徹(日本学術振興会),稲葉 次紀(中央大学),進藤 春雄(東海大学)

著者名(英語): Takafumi Suka(Chuo University),kennji Kimura(Chuo University),Yuya Kubo(Chuo University),Toru Iwao(Japan Society for the Promotion of Science),Tuginori Inaba(Chuo University),Haruo Sindo(Toukai University)

キーワード: プラズマ|半導体ガス|磁界分布特性|磁気プローブ

要約(日本語): 半導体ガスを分解処理するための一方法として,誘導結合型プラズマ(ICP)法が検討されている。誘導結合型プラズマによるガス分解は,そのプラズマの発生状況がガスの分解効率に大きく影響を与えると考えられる。本論文では,誘導結合型プラズマの発生状況を検討するために,プラズマの発生時においてエネルギーを伝達する磁界の径方向分布を測定した。その結果,磁界の強さは圧力による変化が少なく,これは気体の比透磁率が圧力によらずほぼ1であることによることがわかった。また,磁界は,チャンバー壁付近になると最大値に達し,次いで急激に減少し,外壁を越えた位置でほぼ零となる,いわゆるすり鉢状を示した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 132 Kバイト