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高E/n領域の放電によるPCTFEの表面処理-処理後の表面形状-

高E/n領域の放電によるPCTFEの表面処理-処理後の表面形状-

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-215

グループ名: 【全国大会】平成16年電気学会全国大会論文集

発行日: 2004/03/17

タイトル(英語): Surface Processing of PCTFE under High E/n Condition – Surface Morphology of Processed Sample -

著者名: 浜村尚樹(武蔵工業大学),柳原昇平(武蔵工業大学),湯本雅恵(武蔵工業大学)

著者名(英語): Naoki Hamamura(Musashi Institute of Technology),Motoshige Yumoto(Musashi Institute of Technology)

キーワード: PCTFE|表面処理|表面粗さ|高E/n領域の放電|窒素|酸素

要約(日本語): 著者らは窒素雰囲気中の高E/n領域の放電を用いてPTFEの表面処理を行うと、試料表面から数nm程度の範囲に極性基と架橋構造を有する改質層の形成を推定してきた。フッ素系樹脂の接着力向上には表面粗さを1μm程度まで増加させる処理が一般的であるが、この処理では薄く平坦な改質層で接着力向上を期待できる。今回の報告では平坦な改質層が得られることを確かめるため、PTFEより平坦な表面を有するPCTFEを試料として用い、気圧、雰囲気を変えた処理後の試料の表面粗さをAFMで測定した。その結果から、窒素雰囲気で気圧を9.3Paとした場合、数10nm程度の平坦な表面で接着性向上が得られることを示す予定である。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 713 Kバイト

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