EB装置内部におけるアクティブ磁気シールドの効果

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-149

グループ名: 【全国大会】平成16年電気学会全国大会論文集

発行日: 2004/03/17

タイトル(英語): Shielding Effect of Active Shielding inside an Electron Beam Lithography System

著者名: 阿部 康之(東北学院大学),佐藤 智也(東北学院大学),芳賀 昭(東北学院大学),山崎 慶太(竹中工務店),加藤 和夫(竹中工務店),佐久間 征彦(特許機器),上柿 順一(エリオニクス)

著者名(英語): Yasuyuki Abe(Tohoku Gakuin University),Tomoya Sato(Tohoku Gakuin University),Akira Haga(Tohoku Gakuin University),Keita Yamazaki(Takenaka Corporation),Kazuo Kato(Takenaka Corporation),Yukihiko Sakuma(Tokkyokiki Corporation),Junichi Uegaki(Elionix Inc.)

キーワード: アクティブ磁気シールド|電子線描画装置|キャンセリングコイル|環境磁界|磁界解析|磁気遮蔽

要約(日本語): 電子線描画装置(EBLS)の電子ビームは周囲の環境磁気ノイズによって影響を受けないように、通常円筒(EOP)、直方体(SC)で構成される。パーマロイによってシールドされている。その一方、EBLSにアクティブ磁気シールドシステムを適用する場合、シールド体内部の遮蔽効果はキャンセリングコイル(CC)が作る磁力線の均一度、強さに依存する。さらにシールド体周辺で磁界分布が乱されるため、シールド体内部での遮蔽効果に最適な制御用センサの位置選定が重要である。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,823 Kバイト