Au(111)面基板上に堆積したフタロシアニン薄膜の配向性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-022

グループ名: 【全国大会】平成16年電気学会全国大会論文集

発行日: 2004/03/17

タイトル(英語): Thickness Dependence of Organic Gas Treatment ofVanadyl-Phthalocyanine Thin Films

著者名: 濱口 裕功(愛知工業大学),澤 五郎(愛知工業大学),内田 悦行(愛知工業大学),大橋 朝夫(愛知工業大学),小嶋 憲三(愛知工業大学),落合 鎮康(愛知工業大学)

著者名(英語): Hironori Hamaguchi(Aichi Institute of Technology),Goro Sawa(Aichi Institute of Technology),Yoshiyuki Uchida(Aichi Institute of Technology),Asao Ohashi(Aichi Institute of Technology),Kenzo Kojima(Aichi Institute of Technology),Shizuyasu Ochiai(Aichi Institute of Technology)

キーワード: バナジルフタロシアニン|銅フタロシアニン|Au(111)面基板|配向改善

要約(日本語): フタロシアニン系化合物は合成が比較的容易であり、耐熱性、耐光性、耐薬品性などの面で優れている。さらに、π共役長が他の色素に比し長いため、これらの優れた特性から、非線形光学材料として近年活発な研究が行われている。特に、金属基板上に堆積された有機薄膜は、有機エレクトロニクス素子、光スイッチング素子への応用に期待できる。本研究では、Au(111)面基板上にVOPc薄膜およびCuPc薄膜を作成し、蒸着時の基板温度依存性から基板上の分子の形態、配向をVis/UVスペクトル、XRDプロフィールより検討する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 559 Kバイト