微細加工により導入した溝状人工ピンニングセンターの効果

カテゴリ: 全国大会

論文No: 5-014

グループ名: 【全国大会】平成16年電気学会全国大会論文集

発行日: 2004/03/17

タイトル(英語): Effects of groove shaped artificial pinning center introduced by Microfabrication

著者名: 原田 直幸(山口大学),棟近 功(山口大学),後藤祐司 (山口大学),津田 理(山口大学),浜島 高太郎(東北大学)

著者名(英語): Naoyuki Harada(Yamaguchi University),Isao Munechika(Yamaguchi University),Yuji Goto(Yamaguchi University),Makoto Tuda(Yamaguchi University),Takataro Hamashima(Tohoku University)

キーワード: 超電導線材|臨界電流|磁束ピンニング|微細加工

要約(日本語): 超電導材料を線材として応用するには、臨界電流密度を向上させる必要がある。これまでに金属系の超電導線材では、塑性加工により人工的に磁束ピンニングセンターを導入して臨界電流密度の改善が行われてきた。一方、塑性加工が適用できない酸化物超伝導体では新しいピンニングセンターの導入方法が必要である。我々は微細加工を用いて周期的な溝状のピンニングセンターを導入し、ピンニングセンターの深さや周期を変化させて、ピン止めの効果について検討を行った。欠陥などによるピンニングセンターが少ないNb薄膜に溝状のピンニングセンターを導入し、そのピン止め特性を報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 937 Kバイト