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NOx処理用棒状電極への炭素薄膜の成長およびその効果

NOx処理用棒状電極への炭素薄膜の成長およびその効果

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-025

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Growth of carbon film on a rod type electrode and its effect on NOx removal

著者名: 山崎 智光(東京理科大学),小越 澄雄(東京理科大学)

著者名(英語): Tomomitsu Yamazaki(Tokyo University of Science),Sumio Kogoshi(Tokyo University of Science)

キーワード: NOx処理|プラズマCVD|炭素薄膜

要約(日本語): NOxの有力な処理法として無声放電を用いたものが注目されている。本研究では同軸円筒型の無声放電処理装置を用い、その内部電極に炭素コーティングしたNi管を使用し、処理率の向上を目指した。過去に膜の成長時間がNO除去率に影響を与えることを示したが、今回は課題であった放電電力を考慮し、成長条件や、膜の分布についても検討した。膜の成長時間は2時間程度で除去率が飽和し、原料ガスにメタンのみを使用した場合に良好な結果が得られた。膜の分布については、表面波の理論波長を計算し成長した膜の分布と比較したところほぼ一致していることが分かった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 715 Kバイト

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