水面を電極とした低気圧グロー放電による廃水処理およびOH濃度の評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-028

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Waste Water Treatment and Evaluation of OH yield in Low Pressure Glow Discharge with Water Surface Electrode

著者名: 須鎌 千絵(東京都立大学),杤久保文嘉 (東京都立大学),内田 諭(東京都立大学)

著者名(英語): Chie Sugama(Tokyo Metropolitan University),Fumiyoshi Tochikubo(Tokyo Metropolitan University),Satoshi Uchida(Tokyo Metropolitan University)

キーワード: OHラジカル|促進酸化法|グロー放電|廃水処理

要約(日本語): OHラジカルは酸化力が強く有機化合物を非選択的に酸化することが可能である。気体放電を用いたOHラジカルによる促進酸化技術の確立のため、水面を電極とした低気圧グロー放電を生成し、廃水処理に適用した。本報告では初期濃度を変化させた場合のRNO減衰特性、その結果から水中および気中でのOH濃度の評価、さらに減衰経過の観察を行った。処理対象としたRNO減衰の時間変化は投入電力および初期濃度によらずほぼ一定であった。これは、減衰経過を観察したところ水面付近のみで減衰が起こり、反応対象がうまく拡散されず処理対象水が分離していたためであると思われる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,394 Kバイト