中性気体温度のH2プラズマへの影響に関する流体モデル解析

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-065

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル：中性気体温度のH₂プラズマへの影響に関する流体モデル解析

タイトル(英語): The Effect of Neutral Temperature on H2> Plasma by Fluid Model Analysis

著者名: 末次 通夫(慶応義塾大学),神谷 英志(慶応義塾大学),筒井 潔(慶応義塾大学),中村 義春(慶応義塾大学)

著者名(英語): Michio Suetsugu(Keio university),Eiji Kamiya(Keio university),Kiyoshi Tsutsui(Keio university),Yoshiharu Nakamura(Keio university)

キーワード: 容量性結合プラズマ|流体モデル|シミュレーション|中性気体温度

要約(日本語): これまで半導体産業におけるプラズマ解析においては、中性気体の温度については室温程度の一定値としていた。しかし近年M. W. Kiehlbauchらの報告により、実験においてもまた中性気体温度の方程式を含めた計算結果においても室温より高い中性気体温度となることが示された。しかし、彼らはFranck-Condon加熱を評価する際にかなり粗い近似を行っていた。そこで、このFranck-Condon加熱をかなり精度よく評価できる水素プラズマに対して中性気体の加熱を流体方程式により解析した。その結果、H原子については約495Kまで加熱されるが、H2>分子は室温程度となる結果が示された。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 712 Kバイト