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導体パターン最適化による電磁波遮断

導体パターン最適化による電磁波遮断

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-148

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Electromagnetic Wave Shield by Metal Pattern Optimization

著者名: 西谷 真幸(関西大学),長尾 智記(関西大学),米津 大吾(関西大学),原 武久(関西大学),島田 茂樹(住友電工)

著者名(英語): Masayuki Nishitani(Kansai University),Tomoki Nagao(Kansai University),Daigo Yonetsu(Kansai University),Takehisa Hara(Kansai University),Shigeki Shimada(Sumitomo Electric Industries)

キーワード: 電磁シールド|導体パターン|最適化|遺伝的アルゴリズム|時間領域差分法|並列計算

要約(日本語): ガラスなどの誘電体表面に特定の導体パターンを設けると、透過電界の周波数特性を変化させることができる。そこで、本報告では所望の透過電界の周波数特性を得るために、遺伝的アルゴリズム(GA)を用いて導体パターンの最適化を試みた。電磁界解析手法としてはFDTD法を用いて、導体パターンを施した誘電体に中心周波数10GHzのガウシャンパルスを印加して透過電界の周波数特性を計算した。最適化では、2,5,8,5&8GHzの透過電界を遮断することを目標とした。また、最適化における時間短縮のためMPIによる並列計算を行った。その結果、目標とした周波数の透過電界を低減する導体パターンを得ることができた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 905 Kバイト

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