SIサイリスタを使用したパルス電源の開発とプラズマ特性及びDLC成膜の評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-171

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Development of pulse power supply using SI-thyristor and evaluation of plasma characteristic and DLC-deposition

著者名: 寺澤 達矢(日本ガイシ),齋藤 隆雄(日本ガイシ),近藤 好正(日本ガイシ),大竹 尚登(東京工業大学)

著者名(英語): Tatsuya Terazawa(NGK Insulators,LTD.),Takao Saito(NGK Insulators,LTD.),Yoshimasa Kondo(NGK Insulators,LTD.),naoto Ohtake(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: パルス電源|静電誘導サイリスタ|IES回路|プラズマ|ダイヤモンド状炭素膜

要約(日本語): 極小時間に高エネルギーを発生できるパルスパワーの応用技術の研究が表面改質、ガス分解など幅広い分野で進められている。これらの装置には、高圧パルス電源が必要であり、高い動作信頼性が要求される。今回、ダイヤモンド状炭素成膜用に静電誘導サイリスタを使ったIESパルス電源を開発し、プラズマ特性とDLC成膜の評価を行なった。パルス印加直後に電子温度と電子密度が上昇し、反応器内の諸条件により決まる時定数で減衰する様子が観測できた。また波形によりこの挙動が変わることも確認できた。更に、シリコンウエハーにDLC成膜させたところ、従来の数十μsオーダーのパルスを印加した場合と、ほぼ同等の膜質を得た。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 586 Kバイト