ガスパフプラズマガンをイオン源としたパルス重イオン加速器の開発

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-175

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Development of Pulsed Heavy Ion Accelerator Using Gas-Puff Plasma Guns

著者名: 東山 昌義(富山大学),細川 洋平(富山大学),成瀬 康徳(富山大学),北村 岩雄(富山大学),升方 勝己(富山大学),田上 尚男(産業技術総合研究所),荒井 和雄(産業技術総合研究所)

著者名(英語): Masayoshi Higashiyama(Toyama University),Yohei Hosokawa(Toyama University),Yasunori Naruse(Toyama University),Iwao Kitamura(Toyama University),Katumi Masugata(Toyama University),Hisao Tanoue(National Institute of Advanced Industry Science and Technology),Kazuo Arai(National Institute of Advanced Industry Science and Technology)

キーワード: パルス重イオンビーム|ガスパフプラズマガン|磁気絶縁型加速ギャップ

要約(日本語): パルス重イオンビーム (PHIB) は、核融合や材料科学など、多くの応用分野を有している。特に材料科学の分野では、表面処理、薄膜蒸着、またはイオン注入プロセスへの適用が期待される。このうち、PHIBを用いたイオン注入では、イオン照射と表面熱処理または表面アニーリングを同時に行うことができる新方式のイオン注入技術として、特に高温半導体への新しいイオン注入技術として期待される。しかしながら、PHIBを半導体プロセスに応用するには高純度のイオンビームの発生が不可欠である。本研究では高純度のPHIB発生を目指して、ガスパフプラズマガンをイオン源としたイオンダイオードの開発を行っている。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 733 Kバイト