電子線を照射したポリイミドとポリスチレンの昇温下における空間電荷挙動

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-012

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Space Charge behavior in e-beam irradiated Polyimide and Polystyrene films during elevating temperature.

著者名: 對間惇也 (武蔵工業大学),佐藤秀一 (武蔵工業大学),柳沢 聡(武蔵工業大学),田中 康寛(武蔵工業大学),高田 達雄(武蔵工業大学)

著者名(英語): Junya Taima(Musashi Institute of Technology),Shuichi Sato(Musashi Institute of Technology),So Yanagisawa(Musashi Institute of Technology),Yasuhiro Tanaka(Musashi Institute of Technology),Tatsuo Takada(Musashi Institute of Technology)

キーワード: パルス静電応力法|熱刺激電流測定|ポリイミド|ポリスチレン

要約(日本語): 人工衛星などの宇宙機に使用される絶縁材料は、-150～120℃に及ぶ温度差や数k～MeVの高エネルギー放射線が飛び交う過酷な環境下で安定した性能が要求される。これまで我々は、このような環境下の材料特性を評価するために、電子線照射したポリイミドについて、パルス静電応力(PEA)法と熱刺激電流(TSC)測定の同時測定を用い蓄積電荷の挙動を調査してきた。そこで今回、ポリイミドよりも耐放射線性能が高いといわれるポリスチレンに電子線を照射し、同様な調査を行った。ポリイミドに電子線を照射すると正電荷が発生すると報告されているがポリスチレンでは、正電荷の蓄積は観測されないという結果を得たので、報告する。

原稿種別: 日本語

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