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L型ポリ乳酸におよぼす紫外光照射の影響

L型ポリ乳酸におよぼす紫外光照射の影響

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-090

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Effects of Ultraviolet Photon Irradiation on Poly-L-Lactic Acid

著者名: 山口雄也 (早稲田大学),平井直志 (早稲田大学),田中祀捷 (早稲田大学),大木義路 (早稲田大学),田實佳郎 (関西大学),向當政典 (東京電力),岡部成光 (東京電力)

キーワード: 生分解性高分子|絶縁材料|L型ポリ乳酸|パルス静電応力法|紫外光

要約(日本語): 一般に高分子においては紫外光領域での光による劣化が問題となる。今回、生分解性高分子のL型ポリ乳酸(PLLA)について紫外光照射が空間電荷分布におよぼす影響について検討した。KrClエキシマランプ(波長222nm、パワー5.5mW/cm)を用いて紫外光照射試料を作成し、未照射試料とあわせて空間電荷分布の測定を行い比較した。その結果、直流電圧印加後に短絡した状態で紫外光照射面近傍にホモ電荷が観測された。また、可視・紫外吸光から共役二重結合が生じていることが示唆された。ゆえに、PLLAでは紫外光を照射することにより、共役二重結合が生じ、電荷トラップとして働いていると思われる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,819 Kバイト

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