パルス電析法によるCo-Pt薄膜磁石の作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-130

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Fabrication of Co-Pt Thin Film Magnet by Pulse Plating Method

著者名: 甘崎晋次郎 (奈良工業高等専門学校),島岡 三義(奈良工業高等専門学校),和知 弘(日本エレクトロプレイティング,エンジニヤース),笹平 昌男(日本エレクトロプレイティング,エンジニヤース),高瀬 正志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学),藤田 直幸(奈良工業高等専門学校)

著者名(英語): Shinjiro Amasaki(Nara National College of Technology),Mitsuyoshi Shimaoka(Nara National College of Technology),Hiroshi Wachi(Electroplating Engineers of Japan Ltd. ),Masao Sasadaira(Electroplating Engineers of Japan Ltd. ),Masashi Takase(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University),Naoyuki Fujita(Nara National College of)

キーワード: 薄膜磁石|パルス電析|厚膜|磁気特性

要約(日本語): 我々は，生産性や形状追随性などに優れる電析法によるCo-Pt薄膜磁石の作製に取り組んでいる．これまでに，熱処理後の保磁力が約11kOeのCo-Pt薄膜の作製に成功しているが，膜厚が1μm以上になると電着応力のために，剥離が生じるという問題があった．そこで，パルス電析を使うことで，水素の共析を低下させて，電着応力を抑制する試みを行った．その結果，直流では10Cの通電量では，剥離してしまうが，OFF時間2ms，ON時間48msの薄膜では10Cの通電量でも剥離しない厚い薄膜が作製できた．また，パルスOFF時間に依存して膜組成が変化することが明らかになった．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 763 Kバイト