ブロックポリマーを用いたナノスケール構造体の作製とその特性
ブロックポリマーを用いたナノスケール構造体の作製とその特性
カテゴリ: 全国大会
論文No: 2-134
グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集
発行日: 2005/03/15
タイトル(英語): Fabrication and properties of nano-scale structure using Block polymer.
著者名: 高橋 大(豊橋技術科学大学),西村 一寛(豊橋技術科学大学),内田 裕久(豊橋技術科学大学),井上 光輝(豊橋技術科学大学)
著者名(英語): Dai Takahashi(Toyohashi University of Technology),Kazuhiro Nishimura(Toyohashi University of Technology),Hironaga Uchida(Toyohashi University of Technology),Mitsuteru Inoue(Toyohashi University of Technology)
キーワード: ブロックポリマー|表面プラズモン共鳴
要約(日本語): 2つの長いポリマー鎖から構成されたDiblock copolymer(DB)は、分子鎖の長さ及び比率によって自己組織的に様々な形状を形成することが知られている。構成する2つのポリマーの分子量比を7 : 3とした場合、2次元ナノスケール構造を形成することが報告されている。本研究では2次元ナノスケール構造体の表面プラズモン共鳴を期待して、Poly-styrene(PS)によるナノポーラス構造体の作製を目的とした。作製したポーラス構造体は、直径35 - 40 nm、周期40 - 50 nm、深さ6 - 8 nmを形成することを確認した。
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 613 Kバイト
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