硬X線撮影に対するK吸収端の影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-133

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Impact of K absorption end on the hard X-ray image

著者名: 安井 学(神奈川県産業技術総合研究所),増田 信次(神奈川県産業技術総合研究所),平林 康男(神奈川県産業技術総合研究所)

著者名(英語): Yasui Manabu(Kanagawa Industrial Technology Research Institute),Masuda Nobutsugu(Kanagawa Industrial Technology Research Institute),Hirabayashi Yasuo(Kanagawa Industrial Technology Research Institute)

キーワード: Auグリッドマスク|マイクロフォーカスX線検査装置|LIGAライクプロセス|電鋳

要約(日本語): 非破壊検査に使うマイクロフォーカスX線検査装置は正確な倍率を求める事ができないため，参照用スケールを持つグリッド構造体が要望されてきた。我々は一定間隔のグリッド構造体をグリッドマスクと呼び，Niグリッドマスクを提案した。一方で，硬X線がマイクロフォーカスX線検査装置で使用され始めており，我々は線吸収係数が大きいAuを用いたグリッドマスクの製作と硬X線に対する使用可能性を検討した。その結果，試作できる事，管電圧：130kVでAuグリッドマスクを撮影できる事を確認した。硬X線でAuグリッドマスクを撮影できた理由にAuのK吸収端の存在を考えている。そして，K吸収端がX線画像に与える影響について検討したので報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,339 Kバイト