接着層としてSU-8を用いたパターン移植法

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-136

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Pattern Transfer Process by use of SU-8 as Adhesive Layer

著者名: 川田博昭 (大阪府立大学),和田憲幸 (大阪府立大学),藤井宏紀 (大阪府立大学),安田雅昭 (大阪府立大学),平井義彦 (大阪府立大学)

キーワード: 移植法|カンチレバー|SU-8

要約(日本語): ダミー基板上につくられたパターンをメイン基板上に接着，移植し，所望のメイン基板上にパターンを作製する移植法がある.このプロセスでは必要な部分にのみ接着層を配置することが重要である．本研究ではフォトレジストであるSU-8をパターニングし，所望の位置に配置したSU-8を接着層として移植法を開発した．ここでは，ダミー基板上につくられたNiカンチレバー（幅100μm，長さ100～1000μm）をメイン基板に移植した．本方法により1インチのダミー基板上につくられた9つのカンチレバー群が全てSi基板上に移植できた．ビームが基板に接着することはなかったが，長いビームの先端は上方に反ってしまった．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 587 Kバイト