等倍投影露光装置を用いた段差ウェハへの三次元パターニング

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-137

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Three-dimensional patterning on high topography using 1X lithography technology 

著者名: 金岡 佳充(矢崎総業),勝又 文治(矢崎総業),志田 幸穂(ウルトラテック),押久保修司 (ウルトラテック)

著者名(英語): Yoshimitsu Kanaoka(Yazaki Corporation),Fumiharu Katsumata(Yazaki Corporation),Yukio Shida(Ultratech Incorporated),Shuji Oshikubo(Ultratech Incorporated)

キーワード: リソグラフィ|露光装置|段差|三次元

要約(日本語): 等倍投影露光装置（ステッパー）を用いて、大きな段差を持つMEMSのウェハに対しパターニングする方法について報告する。長焦点深度型の露光装置より高解像度、ショットごとにフォーカス位置や露光量の設定可能、1枚のレティクルに4つまでの露光フィールドを配置できるという特長を生かし、複数の露光フィールドを使用して1つのつながったパターンを転写する。各々のフィールドには異なる高さ範囲のパターンのみを配置し、それぞれにフォーカス距離を最適化しながら、連続的に重ね合わせて露光し、全ての露光を終えてから現像する。この方法により、大きな段差へのパターニングに際し，解像度と焦点深度を両立させることができた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 716 Kバイト