マスクレス露光装置を用いたグレイスケールフォトレジストパターンの作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-138

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Fabrication of Gray-Scale Patterns Using Mask-Less Exposure System

著者名: 戸津 健太郎(東北大学),藤代 健太(東北大学),田中 秀治(東北大学),江刺 正喜(東北大学)

著者名(英語): Kentaro Totsu(Tohoku University),Kenta Fujishiro(Tohoku University),Shuji Tanaka(Tohoku University),Masayoshi Esashi(Tohoku University)

キーワード: マスクレス|グレイスケール|リソグラフィ|マイクロレンズアレイ

要約(日本語): グレイスケールリソグラフィを利用した微細加工は，微小構造体表面の形状を自由に設計・製作するために有効な方法である．グレイスケールのレジストパターンを作製するためには，露光量を場所によって変える必要があり，通常は濃淡を有するグレイスケールマスクが用いられる．しかし，このマスクは高価であるため，容易にパターンを変更することができず，MEMSデバイスの試作段階で多用することは困難である．そこで，本報ではマスクを用いずに露光が可能なマスクレス露光装置を用いて，グレイスケールのレジストパターンの作製を試みたので報告する．16階調および256階調の露光と評価を行い，マイクロレンズアレイに応用を図った．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 726 Kバイト