自己組織化単分子膜によるMEMS構造のスティクション回避

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-139

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Self-Assembled Monolayer for Anti-Stiction coating of MEMS Devices

著者名: 泰井祐輔 (東京大学),角嶋 邦之(東京大学),藤田 博之(東京大学),年吉 洋(東京大学),小野 志亜之(東京大学),高橋 琢二(東京大学)

著者名(英語): Yusuke Taii(Institute of Industrial Science,University of Tokyo),Kuniyuki Kakushima(Institute of Industrial Science,University of Tokyo),Hiroyuki Fujita(Institute of Industrial Science,University of Tokyo),Hiroshi Toshiyoshi(Institute of Industrial Science,University of Tokyo),Shiano Ono(Institute of Industrial Science,University of Tokyo),Takuji Takahashi(Institute of Industrial Science,University of Tokyo)

キーワード: MEMS|スティクション|スティッキング|単分子膜|ヘキサメチルジシラザン|SAM

要約(日本語): MEMS構造の動作中に可動部が基板と固着して動作不良を起こす、スティクションが問題となっている。これは、親水性のシリコン基板表面に空気中の水分が凝集し、その表面張力により起こると考えられている。この問題を回避するには、自己組織化単分子膜(Self-Assembled Monolayer, SAM)により基板表面を疎水性化することが有効であると報告されている[1]。本研究では、リリースから単分子膜コーティングまでの行程を全て気相で行うことにより、リリースによる初期不良と動作中の不良を低減できたので、その結果を報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,057 Kバイト